本发明公开了一种金属离子注入改性非晶碳膜的制备方法。本发明包括利用石墨及金属为原料,采用直流磁控溅射及离子注入的制备方法。其特点是:所制涂层是一种改性的物理气相沉积涂层,制备工艺相对简单,具有良好的抗磨损及润滑性能,可作为器件表面减摩抗磨涂层使用。 ......

  • 专利类型:

    发明专利

  • 申请/专利号:

    CN01143088.5

  • 申请日期:

    2001-12-17

  • 专利申请人:

    中国科学院兰州化学物理研究所

  • 分类号:

    C23C14/06;C23C14/34;C23C14/48

  • 发明/设计人:

    阎逢元韩修训张爱民刘维民

  • 权利要求: 1.一种金属离子注入改性非晶碳膜的制备方法,其特征在于包括制备步骤:(1)溅射靶的压制:将300~500目石墨粉在107~109pa的压力下压制成厚2.0~3.0mm,直径50~65mm的石墨靶;(2)涂层的沉积:将压制的石墨靶作为直流磁控溅射装置的阴极,在0.1~5.0Pa的沉积气压下进行靶表面的溅射清洗,溅射气氛为纯Ar;将基底充分清洗后送入真空室样品台,在0.1~5.0Pa的Ar下进行溅射沉积,沉积过程中在基底上施加80V~250V负偏压,涂层总厚度控制在10~200nm;(3)金属离子的注入:金属离子注入在金属离子注入机上进行,利用金属棒作为靶源,加速电压30~100kV,弧流30~70A,束流密度0.1~1.5mA/cm2,注入剂量为1×1013~1×1016离子数/cm2。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于金属离子为银、铬、镍的其中之一。3.如权利要求1所述的方法,其特征在于金属离子的注入过程中真空度不低于1×10-3pa。4.如权利要求1所述的方法,其特征在于涂层的沉积过程中基底选用单晶硅片、不锈钢、轴承钢。

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。