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专利摘要

本发明公开了一种亲疏水两性微图案化高分子模板及其制备方法。在连续的亲水高分子聚合物薄膜上排列分布有呈规则几何图案的疏水高分子聚合物微模块；且连续的亲水高分子聚合物薄膜与疏水高分子聚合物微模块的表面齐平。本发明连续的亲水组分的表面与水结合，在微气泡间形成了相对稳定的液膜，这有助于提高微气泡的稳定性。亲疏水两性微图案化高分子模板因其表面的这种特殊的浸润性能，为降低水环境中摩擦表面的摩擦阻力系数提供了保证。 ......

基本信息

专利类型:
发明专利
申请/专利号:
CN201810161375.4
申请日期:
2018-02-27
专利申请人:
武汉理工大学
分类号:
C08J7/16 ; C08J7/12 ; C08J7/04 ; C08J7/056 ; C08L33/04 ; B63B1/38
发明/设计人:
白秀琴，王超宝，郭智威，袁成清，董从林
权利要求: 1.一种亲疏水两性微图案化高分子模板，其特征在于在连续的亲水高分子聚合物薄膜上排列分布有呈规则几何图案的疏水高分子聚合物微模块；且连续的亲水高分子聚合物薄膜与疏水高分子聚合物微模块的表面齐平；所述高分子模板厚度为0.5-50μm；所述规则几何图案的大小在1.5-1000μm；疏水高分子聚合物微模块在连续的亲水高分子聚合物薄膜上面积占有率在5～70％之间；所述规则几何图案为圆形、正五边形或正六边形；所述高分子模板的制备方法，包括以下步骤：1)在基材上喷涂含亲水基团的烯烃单体，升温引发聚合，在基材表面形成连续的亲水高分子聚合物薄膜；2)采用激光刻蚀，进行微图案化加工；使连续的亲水高分子聚合物薄膜上排列分布有呈规则几何图案的镂空结构；3)将疏水单体填充到镂空结构中，升温引发聚合形成疏水高分子聚合物微模块，得到亲疏水两性微图案化高分子模板。2.如权利要求1所述亲疏水两性微图案化高分子模板，其特征在于所述亲水高分子聚合物薄膜为聚丙烯酸类树脂。3.如权利要求1所述亲疏水两性微图案化高分子模板，其特征在于所述疏水高分子聚合物为有机硅氟类树脂。4.权利要求1-3任一项所述亲疏水两性微图案化高分子模板的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1)在基材上喷涂含亲水基团的烯烃单体，升温引发聚合，在基材表面形成连续的亲水高分子聚合物薄膜；2)采用激光刻蚀，进行微图案化加工；使连续的亲水高分子聚合物薄膜上排列分布有呈规则几何图案的镂空结构；3)将疏水单体填充到镂空结构中，升温引发聚合形成疏水高分子聚合物微模块，得到亲疏水两性微图案化高分子模板。5.如权利要求4所述亲疏水两性微图案化高分子模板的制备方法，其特征在于所述含亲水基团的烯烃单体为丙烯酸。6.如权利要求4所述亲疏水两性微图案化高分子模板的制备方法，其特征在于所述疏水单体为疏水单体甲基丙烯酸十三氟辛酯。7.权利要求1-3任一项所述亲疏水两性微图案化高分子模板作为船舶或水下航行器减阻涂层的应用。