本实用新型公开了一种超滑片转移工装,应用于超滑结构技术领域,包括相对设置的基板和转移部件;基板包括基底,和位于基底朝向转移部件一侧表面切割而成的多个支撑柱;支撑柱朝向转移部件一侧表面用于承载超滑片;转移部件朝向基板一侧表面设置有用于键合超滑片的连接层。通过在基板的基底表面切割出多个支撑柱,可以减少甚至避免基底因边缘翘起、基底表面不平整以及基底表面杂质颗粒所带来的影响。通过先在支撑柱的顶面转移超滑片,可以保证超滑片处在基板表面的最高点,便于实现与转移部件连接层的接触,从而可以实现超滑片大批量的同步转移。 ......

  • 专利类型:

    发明专利

  • 申请/专利号:

    CN202222989635.1

  • 申请日期:

    2022-11-09

  • 专利申请人:

    ["深圳清华大学研究院","清华大学"]

  • 分类号:

    B65G35/00

  • 发明/设计人:

    张艺泽王一然聂锦辉郑泉水

  • 权利要求: 1.一种超滑片转移工装,其特征在于,包括相对设置的基板和转移部件;所述基板包括基底,和位于所述基底朝向所述转移部件一侧表面切割而成的多个支撑柱;所述支撑柱朝向所述转移部件一侧表面用于承载超滑片;所述转移部件朝向所述基板一侧表面设置有用于键合所述超滑片的连接层。2.根据权利要求1所述的超滑片转移工装,其特征在于,所述支撑柱垂直设置于所述基底表面,且所有所述支撑柱朝向所述转移部件的一侧表面平齐。3.根据权利要求2所述的超滑片转移工装,其特征在于,所有所述支撑柱朝向所述转移部件的一侧表面均满足原子级平整。4.根据权利要求3所述的超滑片转移工装,其特征在于,所述支撑柱朝向所述转移部件端部的面积大于或等于所述超滑片的面积。5.根据权利要求4所述的超滑片转移工装,其特征在于,所述支撑柱边长的取值范围为15μm至45μm,包括端点值;相邻所述支撑柱间距的取值范围为15μm至45μm,包括端点值。6.根据权利要求5所述的超滑片转移工装,其特征在于,所述支撑柱为硅柱;所述基底为硅基底。7.根据权利要求1所述的超滑片转移工装,其特征在于,所述支撑柱沿所述基底厚度方向的截面为长方形或梯形。8.根据权利要求1所述的超滑片转移工装,其特征在于,所述支撑柱朝向所述转移部件一侧端部边缘形成有倒角。9.根据权利要求1所述的超滑片转移工装,其特征在于,所述连接层包括位于所述转移部件朝向所述基板一侧表面的增强剂层,以及位于所述增强剂层朝向所述基板一侧表面的粘结剂层。10.根据权利要求9所述的超滑片转移工装,其特征在于,所述增强剂层为金层;所述粘结剂层为纳米银层或PDMS层。

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