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专利摘要

本发明公开了一种用于晶圆的竖直清洗单元，用于晶圆的竖直清洗单元包括：第一主动轮、第二主动轮、第一从动轮和第二从动轮，所述第一从动轮和所述第一主动轮上下正对设置，所述第二主动轮和所述第二从动轮分别位于所述第一主动轮和所述第一从动轮之间连线的两侧，所述晶圆适于放置在所述第一主动轮、所述第二主动轮、所述第一从动轮和所述第二从动轮之间。由此，通过把第一从动轮设置在晶圆上方，能够增大第一主动轮与晶圆之间的摩擦力，从而可以提高传动效率，并且，通过把第一主动轮设置在晶圆下方，能够使晶圆下方变成容易清洗的主动轮，从而可以提高晶圆的清洗效率和生产效率。 ......

基本信息

专利类型:
发明专利
申请/专利号:
CN201710671579.8
申请日期:
2017-08-08
专利申请人:
["清华大学","华海清科股份有限公司"]
分类号:
H01L21/67 ; H01L21/677
发明/设计人:
路新春，饶璨，肖月朝，裴召辉，金军，沈攀
权利要求: 1.一种用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，包括：第一主动轮、第二主动轮、第一从动轮和第二从动轮，所述第一从动轮和所述第一主动轮上下正对设置，所述第二主动轮和所述第二从动轮分别位于所述第一主动轮和所述第一从动轮之间连线的两侧，所述晶圆适于放置在所述第一主动轮、所述第二主动轮、所述第一从动轮和所述第二从动轮之间。2.根据权利要求1所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，所述第二主动轮和所述第二从动轮关于所述第一主动轮和所述第一从动轮之间连线对称设置。3.根据权利要求1或2所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，所述第一从动轮和所述第一主动轮之间连线的中心为圆心，所述第二主动轮和所述第二从动轮所对应的圆心角β满足：30°≤β≤150°。4.根据权利要求1所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，还包括：限位结构，所述第一从动轮安装在所述限位结构上。5.根据权利要求1所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，所述第一主动轮、所述第二主动轮、所述第一从动轮和所述第二从动轮中的至少一个设置有摩擦部。6.根据权利要求5所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，所述摩擦部为花纹、凸起和凹槽中的一种。7.根据权利要求6所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，所述第一主动轮和所述第二主动轮上的所述摩擦部为花纹，所述第一从动轮和所述第二从动轮上的所述摩擦部为凹槽。8.根据权利要求1所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，所述第一主动轮、所述第二主动轮、所述第一从动轮和所述第二从动轮的直径相同。9.根据权利要求1所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，相对于所述第一从动轮，所述第二主动轮和所述第二从动轮靠近所述第一主动轮。10.根据权利要求1所述的用于晶圆的竖直清洗单元，其特征在于，所述第二主动轮位于所述第一主动轮的左上方，所述第二从动轮位于所述第一主动轮的右上方；或所述第二主动轮位于所述第一主动轮的右上方，所述第二从动轮位于所述第一主动轮的左上方。